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    半导体工艺讲解
    半导体工艺讲解(1)--掩模和光刻（上）概述光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。光刻机是生产线上最贵的机台，5～15百万美元/台。主要是贵在成像系统（由15～20个直 径为200～300mm的透镜组成）和定位系统（定位精度小于1
    时间：2023-07-20  热度：17℃
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    【光刻百科】【硬掩模，HardMask】近期光刻人的世界将会为大家推送光刻中的常用词汇。敬请关注，欢迎转发！fivedays考研成绩什么时候出来硬掩模(Hard Mask)是一种通过CVD(Chemical Vapor Deposition, CVD)生成的无机薄膜材料。硬掩模(Hard Mask)是一种通过CVD(Chemical Vapor Deposition, CVD)生成的无机薄膜材料。
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