英文专有名词 | 中文说明（数字表示有详注） |
LCD (Liquid Crystal Display) | 液晶显示器*注. |
Glass, substrate or glass substrate | 玻璃基版*注• |
TFT(Thin Film Tran sistor) | 薄膜晶体管*注. |
Panel | 面板 |
Array | 排列，指在玻璃基板上做TFT的制程 LCD -Array |
Cell | 液晶填充制程 .分为 LCD-FEOL (Cell 前段) LCD-BEOL (Cell 后段含 Cell Tester) |
Module | 模块，指后段组装制程 LCM |
Mo nitor | 监视器 |
Pixel XGA : extended Graphics Array=1024*768Pixels SXGA: Super XGA=1280*1024Pixels | 像素*注• PS •像素越多表示分辨率越高 |
Computer | 计算机 |
Notebook | 笔记型计算机（简称为NB） |
RGB (Red, Green, Blue) | 指红绿蓝三原色 |
PM (Preve ntive Mai nte nan ce) | 预防保养 |
Quality | 品质 |
Sta ndard | 标准（指作业标准或品质指针） |
Material | 材料 |
Yield | 良率 |
CIM (Computer In tegrati on Manu facturi ng) | 计算机整合制造（指以计算机系统整合制造流 程） |
FA (Factory Automati on) | 工厂自动化 |
Exit | 出口 |
Precauti on | 预防措施 |
Warni ngmountain lion | 警告 |
Emerge ncy | 紧急 |
Alarm | 警报 |
英文专有名词 | 中文说明 |
Clea n room | 洁净室***注. |
Particle | 微粒子***注. |
HEPA (High Efficient Particulate Air) filter | 咼效能粒子空气过滤网 |
Con tam in ati on | 污染 |
Temperature (TEMP) | 温度 |
Humidity | 湿度 |
Pressure | 压力 |
UPW (Ultra-Pure Water) | 超纯水 |
DIW (De-Io ni zed Water) | 去离子水 |
IPA (Isopropyl Alcohol) | 异丙醇 |
Sticky mat | 脚踏粘垫***注. |
Clea nli ness | 洁净度 |
ESD (Electro-static Discharge) | 静电破坏***注• |
Lam inar flow | 层流（流体力学名词） |
Turbule nt flow | 扰流（流体力学名词） |
Alcohol | 酒精 |
Acet one | 丙酮 |
Particle | 微粒子 |
Dust | 灰尘 |
Gow ning room | 换衣间***注. |
Raid floor (grati ng floor) | 咼架地板***注• |
Air shower | 气浴室***注. |
Prohibit | 禁止 |
Clea n suit (bunny suit, dust-free garme nt) | 无尘衣***注. |
Glove | 手套 |
Hair net | 网帽 |
Hood | 头罩 |
Mask | 口罩 |
Clea n shoes (dust-free shoes, boots) | 无尘鞋 |
英文专有名词 | 中文说明 |
Vehicle | 运输工具或载具 |
AGV (Automatic Guided Vehicle) | 自动搬运车 |
MGV (Ma nual Guided Vehicle) | 人力搬运车 |
Clean lifter | 天井传送车 |
LIM (Li near In ductio n Motor) Carrier | 线性感应马达传送载具 |
OHS (Overhead Shuttle) | 天车或称轨道车 |
Stocker (clea n depot) | 存放Castte架子）的暂存区 |
Battery | 电池 |
Bay | 作业区 — |
Bumper | 保险杠 |
Charger | 充电器 |
Con troller | 控制器 |
Conveyor | 输送带 |
Crane | 吊车（在 Stocker内） |
FFU (Fan Filter Unit) | 风扇过滤器 |
Host | 主机 |
I/O (Input / Output) | 输入/输出 |
In ter-bay | 作业区和作业区之间 |
In tra-bay | 作业区之内 |
IR (In fra-Red) | 红外线 |
IRIF(I nfra-Red In ter-Face) 端午节 英文 | 红外线接口 |
Load | 进料 |
Un load | 卸货 |
Magn etic tape | AGV路径所使用的磁条 |
POSEIDON | 海神生产操作系统 |
Retrieve | 【计算机】检索，撷取（资料） |
RTM (Rotary Tran sfer Mach ine) | 旋转传送机 |
SCARA arm | AGV之传送手臂 : |
Ret | 重新设定 |
Tran sportati on | 传输 |
英文专有名词 | hotel management中文说明 |
Recipe | 程序，制程参数 |
Stock out | 将Castte取出 |
Request | 请求，要求 |
Tran sfer | 传送，运送 |
In structio n | 命令，指令 |
Select | 选择 |
Can cel | 取消 |
Operati on | 作业，操作 |
Support | 支持 |
Process | 制程 |
Start | 开始 |
Comp. | Completion的缩与，意指元成 |
Batch | 批量divergent |
Lot | 指生产线上的在制品或产品，简称「货」 |
ID (Ide ntity) | 识别码(如 Lot ID or Chip ID) |
Sheet | 片（Array区玻璃基版计数单位）***注. |
Chip | 片（Cell区玻璃计数单位）***注. |
In specti on | 检验 |
Defect | 缺陷 |
Productio n | 生产 |
Hold | 留置在当站制程（如有品质问题时） |
Relea | 将hold住的货放行，释出 |
Equipme nt | 设备（简称为to make each day countEQP） |
Tool | 名头工具，机台 |
WIP (Work In Process) | 在制品（制程在制品） |
Maintenance | 维修保养 |
Castte | 装在制品的架子***注generous. | 食尸鬼英文
Empty | 空的 |
Rerve | 预约 |
Report | 报告 |
Scrap | 报废 |
Rework | 重工 |
Log on | 登帐 |
Log off | 除帐 |
Note | 批注 |
英文专有名词 | 中文说明 |
Material | 材料 |
Metal | 金属 |
Target | 靶 |
MoW (Moly-tu ngste n) | 钨化钼 |
Mo (Molybde num) | 钼 |
ITO (In dium Tin Oxide) | 铟锡氧化物 |
Al (Alumi num) | 铝 |
AINd(Alumi num and Neodymium Alloy) | 铝和钕的合金以上皆为溅镀机金属靶的材料之一 |
Reticle or Mask | 光罩 |
Deterge nt (LH-300) | 界面活性剂的一种（清洗机用来清洗玻璃表面用 LH-300为供货商型号） |
LAL-50 | 含NH4F与HF，为清洗机用来清洗玻璃表面氧化层 的化学溶液 |
03 (Ozone) | 臭氧，主要为各制程用来清除有机物的污染或残留 |
NBA (1-butyl Acetate) | 乙酸正丁酯，主要用来清洗旋转涂布光阻时残留在 玻璃边缘的光阻液 |
Resist or Photo Resist | 光阻（简称PR） |
HMDS | Hexamethyldisilaza ne的简写，为一种化学中间体， 用以增加光阻涂布时对芯片表面之附着力 |
AC-1 | 带静电防止剂（ESD-Prevente），在上光阻机内使 用，防止静电产生，破坏玻璃组件 |
TMAH （供货商型号为KTM-25） | Tetra-Methyl Ammo nium Hydroxide 的简写，为厂 内所使用之显影液 |
Oxalic Acid (H 2C2O4) | 草酸，湿蚀刻机中用来蚀刻5PEP中的a-ITO膜 |
DHF | 成份为49%氢氟酸HF,主要为湿蚀刻机中用来蚀刻 7PEP中的 SiNx 膜 |
ITO-Etcha nt | 成份中含盐酸HCI及硝酸HNO3bustle，主要用来蚀刻 7PEP中 的 Poly-ITO |
BHF | 成份中含氟化铵NH4F及HF，主要用来蚀刻7PEP中 的 SiON |
Al-Etcha nt | 成份中含乙酸CH3COOH、磷酸H3PO4及硝酸HNO3, 主要用来蚀刻Mo/Al/Mo的沉积层 |
IPA | 异丙醇Isopropyl Alcohol的简称，主要用来作为设 备擦拭液，在去光阻制程中亦用来清除玻璃基板上 的有机残留物（如光阻或去光阻液） |
N-300 | 去光阻液，N-300为厂商型号，成份为单乙醇铵与 单丁醚的混合物 |
(Process) Gas | （制程）气体…目前大多数种类的气体，多为提供 CVD，Sputter及干蚀刻电浆源之用 |
SiH4 | 硅甲烷 制程气体（泄漏有爆炸危险） |
本文发布于:2023-06-26 23:32:07，感谢您对本站的认可！
本文链接：https://www.wtabcd.cn/fanwen/fan/90/158789.html
版权声明：本站内容均来自互联网，仅供演示用，请勿用于商业和其他非法用途。如果侵犯了您的权益请与我们联系，我们将在24小时内删除。
| 留言与评论（共有 0 条评论） |
