TFCalc设计膜层方法指导（简单）
假设我们要设计一个反射率>%高反膜系（波长10600nm）：
条件：
（1）基底材料：GaAs
（2）膜料：ZnSe，YF3
具体步骤：
1． 点击TFCalc图标进入其操作界面：
图中弹出对话框，要求输入要编辑的文件名。因为我们是要新编膜系，则点击“取消”按钮，则只显示如下界面：
图中自左到右的菜单名称中文意思分别是：“文件”、“编辑”、“修改”、“运行”、“结果”、“杂项”和“帮助”。点击其中的任何一项将弹出其包含的菜单内容。
2．点击第一项“File”，弹出如下菜单项：
| 左图中的中文意思自上到下分别是： 新建膜系文件 nhava sheva 重新打开膜系文件 关闭膜系文件 保存膜系文件 以其他的文件名保存膜系文件 恢复原始文件 打印膜系 打印设置 退出TFCalc 关于TFCalc |
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3． 点击第一项“New Coating”弹出如下“编辑环境对话框”：
上图左边图中英文对应的中文意思分别是：
Angle | 角度 | Incident Medium | 入射介质 |
Substrate | 基底 | Front Layer | 基底前面 |
Back Layer | 基底后面 | Exit Medium | 出射介质 |
| | | 大家好的英文 |
在上图的右边框内分别输入：
Reference Wavelength(参考波长)： | 1580 |
Illuminate（光源）： | WHITE（白光） |
Incident angle（入射角）： | |
Incident medium（入射介质）： | AIR（空气） |
Substrate（基底） | GaAs（砷化镓） |
Thickness（厚度）mm | 1（一般不考虑基底材料的厚度） |
Exit medium（出射介质） | GaAs（如果是透视膜系，则出射介质一般是空气） |
Detector（探测器）： leave the door open | IDEA(理想探测器)marryyou |
First Surface（第一面） | Front |
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注：光源、基底材料、探测器应该分别在Illuminate、substrate、detector库中存在。这些
库可以增减。
4． 点击下面的“Analysis Parameters”（分析参数）按钮，弹出下面的对话框：
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因为本例我们考虑是入射角为0的条件，因此选中第一项的圆形无线电按钮------
Range of wavelengths（波长范围）（nm），其他的均不选。点击OK按钮，返回上一层对话框，再点击OK按钮，显示如下的反射率与波长的关系曲线图（该图显示的没有镀膜情况下，基底材料的反射率）：
图上方的英文字符列出了该图成立的环境条件。
现在我们可以进入下一步具体的膜系结果设计，一般高反膜系的结构是(HL)^sH，其中s是大于0的正整数。
5． 点击“Modify”菜单，弹出如下菜单选项：
| 左边菜单项从上到下对应的中文意思是： flux 环境 膜堆公式 前面层 后面层 组 单一目标 连续目标 注释 可变材料 环境 材料 基底 光源 探测器 分布 |
| |
ashome
6． 编辑膜系，有2种方法可以编辑膜系，下面我们分别介绍：
成本会计岗位职责（1）使用膜堆公式
（a）选择“Stack Fomula”，弹出如下膜堆公式窗口：
图中的英文意思如下：
Enter the formula. The substrate is the left of the first layer：输入公式，基底在第一影评作文
层的左边；
Material（材料）：后面框内输入材料名称
Thickness：厚度：后面框内输入厚度值（四分之一波长数），该值最好为大于0的正整数
Optimize（优化）：后面的框内输入“yes”或“No”
Group（组）：后面的框内输入1
下面的3个按钮的意思是：
Generate Layers：生成膜系，完成后点击该按钮将生成膜系
中间是取消
Clear formula：清除公式。点击该按钮将不保存已经输入的膜堆公式，否则将下次进入该对话框将出现上次输入的膜堆公式葡语国家
输入膜堆公式，选择H（高折射率材料）和L(低折射率材料)等参数后的对话框如下：
如上图所示，膜堆公式为(HL)^8H，省略了G，完整的应该是G(HL)^8H，意思是：GHLHLHLHLHLHLHLHLH
厚度选择“7”是因为我们在环境对话框中将参考波长选择为1580nm（已经调好波长值），最好是10600能整除的数，此地我们设为7，，7×1580nm比较接近10600nm。如果发现不合适可以调整该值。
