蒸发镀与离子镀

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是

在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子萝卜条 束和激光轰击

等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振

动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直

接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜（多弧）是利用气体放电产

生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中

的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜最常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简

单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质

材料。电子束加热创新议论文素材 和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热

上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，

使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功

率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。(蒸发

镀即电子枪，就是把要用的金属块如铬放到坩埚里面然后加热使其蒸

发，与其中的N，还有氩气等其他气体，一起吸附在阴极基材上。

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温度380℃~420℃)

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固

体表面（靶），使固体原子或分子从培训计划安排表 表面射出的现象。射出的粒子大

多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，

离子或cad三维制图 中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此

大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即

溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式

有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热

阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利

用环状磁场控制下的辉光放电。

溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以

溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间

的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比

较复杂，需要高压装置。（离子论文作者简介 溅射技术即多弧，就是用高电压轰击

靶材，靶材就是用我们所要的如CrTi靶，轰击出来直接吸附到基材

上，如果出现溶滴就是没有将靶材完全离子化。420℃＋）

此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点

是得到的膜与基板间有极强的附着力，有一年级句子大全 较高的沉积速率，膜的密度

高。