Electrostatic lens and charged beam exposure appar

更新时间:2023-07-19 22:03:12 阅读: 评论:0

旧县镇
专利名称:Electrostatic lens and charged beam
exposure apparatus using the same
吊兰的花发明人:Nagae, Kenichi, c/o Canon Kabushiki
吉他左手指法图解
Kaisha,Ono, Haruhito, c/o Canon Kabushiki
Kaisha,Tanimoto, Sayaka, c/o Hitachi, Ltd.,
In.Prop.Gro
申请号:EP04254720.8
申请日:20040805
水彩作品
公开号:EP1505629B1
公开日:
苏三说歌词
force是什么意思20160525
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:A multi-charged beam lens formed by stacking three or more electrode substrates via insulators compris a voltage application portion arranged on at least one of said at least three substrates and an insulating portion which insulates said voltage application portion from said insulators.
申请人:CANON KK,HITACHI HIGH TECH CORP
地址:JP,JP
春天如何养生国籍:JP,JP点睛的拼音
代理机构:TBK
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