化学反应原理
H2SO4+H2O2→HO-(SO2)-O-
blasphemeOH<H2SO5>+H2O
HO-(SO2)-O-OH+(CH2)n→CO2+H2O 有机物、微粒
、金属
槽体浸泡、
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加热
硫酸药液比较粘稠，为
冲洗掉H2SO4，在硫酸槽
后面的热水槽（Hot-
QDR)中装有兆声波装置
。
scrotum
微粒、有机物
槽体浸泡、
超声、兆声
、加热、循
环、过滤
SC1槽使用兆声波方式。
兆声清洗时，由于
0.8Mhz的加速度作用，
能去除 ≥ 0.2 μm 颗
粒，而且又可避免超声
toyota什么意思洗晶片产生损伤。
金属+离子 + CL-→氯化化合物金属、微粒槽体浸泡、
加热、循环
、过滤
经过大量实验发现
HF+H2O2液清洗去除金属
的能力比较强，在一些
dong aIC芯片制造厂，常使用
HF+H2O2来代替SC2清洗
SiO2 + 6HF→H2SiF6 + 2H2O氧化物、金属槽体浸泡、
控温、循环
、过滤
HF对硅晶圆片表面的硅
几乎不腐蚀，HF对不同
材料的刻蚀情况如下：
PSG >> SiO2>> Si3N4
>>Si
冲洗晶圆片表面的残留药液，并且不可以带入其他的杂质离子。
everyday english清洗
喷淋、鼓泡
、溢流、快
wasted
排
justbecau
为了得到更好冲洗效
果，有时会在水槽上安
置兆声波振荡器。一些
高温药液槽(H2SO4
中国娃娃的英文
H3PO4 SC1等)后使用高
温快排槽（Hot-QDR)目标清除污
boilerroom染物
配置功能其他说明
