安悦

专利名称：一种中深孔钻孔轨迹较正方法

专利类型：发明专利

发明人：安仰生,甘延景,安悦,杜显彪,周付彬,王少杰,边从林,

沈盼

申请号：CN2.5

申请日：20210105

公开号：CN112796661A

公开日：20210514

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种中深孔钻孔轨迹校正方法，校正的技术参数指标为：施工的钻孔为500m

以上的中深孔，所寻找的目标体为隐伏陡倾斜或是产状大于45°的目标体，且矿体埋深在400m以

上；钻孔轴线穿过的地层有软弱地层，钻孔轴易跑偏；钻孔弯曲度测量数据齐全准确无误；利用

excel表格软件计算钻孔弯曲度测量数据的换算坐标值，利用ction软件的表格数据投影功能绘制钻

孔轴线的轨迹。本发明能够快速绘制施工中深部钻孔轴线轨迹，以判别深部隐伏矿体的赋存位置，有

效解决中深孔易跑斜钻孔轴线轨迹校正的关键技术难题。这一发明具有精度高、工作效率快、找矿勘

探成本低等特点，对于推动我国深部钻探施工、深部隐伏找矿具有重要意义。

申请人：山东省鲁南地质工程勘察院(山东省地勘局第二地质大队)

地址：272106山东省济宁市兖州区建设东路272号

国籍：CN

代理机构：山东舜天律师事务所

代理人：王永建

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