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更新时间:2022-11-26 13:41:37 阅读: 评论:0


2022年11月26日发(作者:陈如鉴)

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

1v

半导体一些术语的中英文对照

离子注入机ionimplanter

LSS理论LindhandScharffandSchiotttheory

又称“林汉德-斯卡夫-斯高特理论”。

沟道效应channelingeffect

射程分布rangedistribution

深度分布depthdistribution

投影射程projectedrange

阻止距离stoppingdistance

阻止本领stoppingpower

标准阻止截面standardstoppingcrossction

退火annealing

激活能activationenergy

等温退火isothermalannealing

激光退火larannealing

应力感生缺陷stress-induceddefect

择优取向preferredorientation

制版工艺mask-makingtechnology

图形畸变patterndistortion

初缩firstminification

精缩finalminification

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

2v

母版mastermask

铬版chromiumplate

干版dryplate

乳胶版emulsionplate

透明版e-throughplate

高分辨率版highresolutionplate,HRP

超微粒干版plateforultra-microminiaturization

掩模mask

掩模对准maskalignment

对准精度alignmentprecision

光刻胶photoresist

又称“光致抗蚀剂”。

负性光刻胶negativephotoresist

正性光刻胶positivephotoresist

无机光刻胶inorganicresist

多层光刻胶multilevelresist

电子束光刻胶electronbeamresist

X射线光刻胶X-rayresist

刷洗scrubbing

甩胶spinning

涂胶photoresistcoating

后烘postbaking

光刻photolithography

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

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X射线光刻X-raylithography

电子束光刻electronbeamlithography

离子束光刻ionbeamlithography

深紫外光刻deep-UVlithography

光刻机maskaligner

投影光刻机projectionmaskaligner

曝光exposure

接触式曝光法contactexposuremethod

接近式曝光法proximityexposuremethod

光学投影曝光法opticalprojectionexposuremethod

电子束曝光系统electronbeamexposuresystem

分步重复系统step-and-repeatsystem

显影development

线宽linewidth

去胶strippingofphotoresist

氧化去胶removingofphotoresistbyoxidation

等离子[体]去胶removingofphotoresistbyplasma

刻蚀etching

干法刻蚀dryetching

反应离子刻蚀reactiveionetching,RIE

各向同性刻蚀isotropicetching

各向异性刻蚀anisotropicetching

反应溅射刻蚀reactivesputteretching

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

4v

离子铣ionbeammilling

又称“离子磨削”。

等离子[体]刻蚀plasmaetching

钻蚀undercutting

剥离技术lift-offtechnology

又称“浮脱工艺”。

终点监测endpointmonitoring

金属化metallization

互连interconnection

多层金属化multilevelmetallization

电迁徙electromigration

回流reflow

磷硅玻璃phosphorosilicateglass

硼磷硅玻璃boron-phosphorosilicateglass

钝化工艺passivationtechnology

多层介质钝化multilayerdielectricpassivation

划片scribing

电子束切片electronbeamslicing

烧结sintering

印压indentation

热压焊thermocompressionbonding

热超声焊thermosonicbonding

冷焊coldwelding

点焊spotwelding

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球焊ballbonding

楔焊wedgebonding

内引线焊接innerleadbonding

外引线焊接outerleadbonding

梁式引线beamlead

装架工艺mountingtechnology

附着adhesion

封装packaging

金属封装metallicpackaging

陶瓷封装ceramicpackaging

扁平封装flatpackaging

塑封plasticpackage

玻璃封装glasspackaging

微封装micropackaging

又称“微组装”。

管壳package

管芯die

引线键合leadbonding

引线框式键合leadframebonding

带式自动键合tapeautomatedbonding,TAB

激光键合larbonding

超声键合ultrasonicbonding

红外键合infraredbonding

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微电子辞典

Abruptjunction突变结Acceleratedtesting加速实验

Acceptor受主Acceptoratom受主原子

Accumulation积累、堆积Accumulatingcontact积累接触

Accumulationregion积累区Accumulationlayer积累层

Activeregion有源区Activecomponent有源元

Activedevice有源器件Activation激活

Activationenergy激活能Activeregion有源(放大)区

Admittance导纳Allowedband允带

Alloy-junctiondevice合金结器件Aluminum(Aluminium)铝

Aluminum–oxide铝氧化物Aluminumpassivation铝钝化

Ambipolar双极的Ambienttemperature环境温度

Amorphous无定形的,非晶体的Amplifier功放扩音器放大器

Analogue(Analog)comparator模拟比较器Angstrom埃

Anneal退火Anisotropic各向异性的

Anode阳极Arnic(AS)砷

Auger俄歇Augerprocess俄歇过程

Avalanche雪崩Avalanchebreakdown雪崩击穿

Avalancheexcitation雪崩激发

Backgroundcarrier本底载流子Backgrounddoping本底掺杂

Backward反向Backwardbias反向偏置

Ballastingresistor整流电阻Ballbond球形键合

Band能带Bandgap能带间隙

Barrier势垒Barrierlayer势垒层

Barrierwidth势垒宽度Ba基极

Bacontact基区接触Bastretching基区扩展效应

Batransittime基区渡越时间Batransportefficiency基区输运系数

Ba-widthmodulation基区宽度调制Basisvector基矢

Bias偏置Bilateralswitch双向开关

Binarycode二进制代码Binarycompoundmiconductor二元化合物半导体

Bipolar双极性的BipolarJunctionTransistor(BJT)双极晶体管

Bloch布洛赫Blockingband阻挡能带

Blockingcontact阻挡接触Body-centered体心立方

Body-centredcubicstructure体立心结构Boltzmann波尔兹曼

Bond键、键合Bondingelectron价电子

Bondingpad键合点Bootstrapcircuit自举电路

Bootstrappedemitterfollower自举射极跟随器Boron硼

Borosilicateglass硼硅玻璃Boundarycondition边界条件

Boundelectron束缚电子Breadboard模拟板、实验板

Breakdown击穿Breakover转折

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Brillouin布里渊Brillouinzone布里渊区

Built-in内建的Build-inelectricfield内建电场

Bulk体/体内Bulkabsorption体吸收

Bulkgeneration体产生Bulkrecombination体复合

Burn-in老化Burnout烧毁

Buriedchannel埋沟Burieddiffusionregion隐埋扩散区

Can外壳Capacitance电容

Capturecrossction俘获截面Capturecarrier俘获载流子

Carrier载流子、载波Carrybit进位位

Carry-inbit进位输入Carry-outbit进位输出

Cascade级联Ca管壳

Cathode阴极Center中心

Ceramic陶瓷(的)Channel沟道

Channelbreakdown沟道击穿Channelcurrent沟道电流

Channeldoping沟道掺杂Channelshortening沟道缩短

Channelwidth沟道宽度Characteristicimpedance特征阻抗

Charge电荷、充电Charge-compensationeffects电荷补偿效应

Chargeconrvation电荷守恒Chargeneutralitycondition电中性条件

Chargedrive/exchange/sharing/transfer/storage电荷驱动/交换/共享/转移/存储

Chemmicaletching化学腐蚀法Chemically-Polish化学抛光

Chemmically-MechanicallyPolish(CMP)化学机械抛光Chip芯片

Chipyield芯片成品率Clamped箝位

Clampingdiode箝位二极管Cleavageplane解理面

Clockrate时钟频率Clockgenerator时钟发生器

Clockflip-flop时钟触发器Clo-packedstructure密堆积结构

Clo-loopgain闭环增益Collector集电极

Collision碰撞CompensatedOP-AMP补偿运放

Common-ba/collector/emitterconnection共基极/集电极/发射极连接

Common-gate/drain/sourceconnection共栅/漏/源连接

Common-modegain共模增益Common-modeinput共模输入

Common-moderejectionratio(CMRR)共模抑制比

Compatibility兼容性Compensation补偿

Compensatedimpurities补偿杂质Compensatedmiconductor补偿半导体

ComplementaryDarlingtoncircuit互补达林顿电路

ComplementaryMetal-Oxide-SemiconductorField-Effect-Transistor(CMOS)

互补金属氧化物半导体场效应晶体管

Complementaryerrorfunction余误差函数

Computer-aideddesign(CAD)/test(CAT)/manufacture(CAM)计算机辅助设计/测试/制

CompoundSemiconductor化合物半导体Conductance电导

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

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Conductionband(edge)导带(底)Conductionlevel/state导带态

Conductor导体Conductivity电导率

Configuration组态Conlomb库仑

ConpledConfigurationDevices结构组态Constants物理常数

Constantenergysurface等能面Constant-sourcediffusion恒定源扩散

Contact接触Contamination治污

Continuityequation连续性方程Contacthole接触孔

Contactpotential接触电势Continuitycondition连续性条件

Contradoping反掺杂Controlled受控的

Converter转换器Conveyer传输器

Copperinterconnectionsystem铜互连系统Couping耦合

Covalent共阶的Crossover跨交

Critical临界的Crossunder穿交

Crucible坩埚Crystaldefect/face/orientation/lattice晶体缺陷/晶面/晶向/晶

Currentdensity电流密度Curvature曲率

Cutoff截止Currentdrift/dirve/sharing电流漂移/驱动/共享

CurrentSen电流取样Curvature弯曲

Customintegratedcircuit定制集成电路Cylindrical柱面的

Czochralshicrystal直立单晶

Czochralskitechnique切克劳斯基技术(Cz法直拉晶体J)

Danglingbonds悬挂键Darkcurrent暗电流

Deadtime空载时间Debyelength德拜长度

e德布洛意Decderate减速

Decibel(dB)分贝Decode译码

Deepacceptorlevel深受主能级Deepdonorlevel深施主能级

Deepimpuritylevel深度杂质能级Deeptrap深陷阱

Defeat缺陷

Degeneratemiconductor简并半导体Degeneracy简并度

Degradation退化DegreeCelsius(centigrade)/Kelvin摄氏/开氏温度

Delay延迟Density密度

Densityofstates态密度Depletion耗尽

Depletionapproximation耗尽近似Depletioncontact耗尽接触

Depletiondepth耗尽深度Depletioneffect耗尽效应

Depletionlayer耗尽层DepletionMOS耗尽MOS

Depletionregion耗尽区Depositedfilm淀积薄膜

Depositionprocess淀积工艺Designrules设计规则

Die芯片(复数dice)Diode二极管

Dielectric介电的Dielectricisolation介质隔离

Difference-modeinput差模输入Differentialamplifier差分放大器

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Differentialcapacitance微分电容Diffudjunction扩散结

Diffusion扩散Diffusioncoefficient扩散系数

Diffusionconstant扩散常数Diffusivity扩散率

Diffusioncapacitance/barrier/current/furnace扩散电容/势垒/电流/炉

Digitalcircuit数字电路Dipoledomain偶极畴

Dipolelayer偶极层Direct-coupling直接耦合

Direct-gapmiconductor直接带隙半导体Directtransition直接跃迁

Discharge放电Discretecomponent分立元件

Dissipation耗散Distribution分布

Distributedcapacitance分布电容Distributedmodel分布模型

Displacement位移Dislocation位错

Domain畴Donor施主

Donorexhaustion施主耗尽Dopant掺杂剂

Dopedmiconductor掺杂半导体Dopingconcentration掺杂浓度

Double-diffusiveMOS(DMOS)双扩散MOS.

Drift漂移Driftfield漂移电场

Driftmobility迁移率Dryetching干法腐蚀

Dry/wetoxidation干/湿法氧化Do剂量

Dutycycle工作周期Dual-in-linepackage(DIP)双列直插式封装

Dynamics动态Dynamiccharacteristics动态属性

Dynamicimpedance动态阻抗

Earlyeffect厄利效应Earlyfailure早期失效

Effectivemass有效质量Einsteinrelation(ship)爱因斯坦关系

ElectricEraProgrammableReadOnlyMemory(E2PROM)一次性电可擦除只读存储器

Electrode电极Electrominggratim电迁移

Electronaffinity电子亲和势Electronic-grade电子能

Electron-beamphoto-resistexposure光致抗蚀剂的电子束曝光

Electrongas电子气Electron-gradewater电子级纯水

Electrontrappingcenter电子俘获中心ElectronVolt(eV)电子伏

Electrostatic静电的Element元素/元件/配件

Elementalmiconductor元素半导体Ellip椭圆

Ellipsoid椭球Emitter发射极

Emitter-coupledlogic发射极耦合逻辑Emitter-coupledpair发射极耦合对

Emitterfollower射随器Emptyband空带

Emittercrowdingeffect发射极集边(拥挤)效应

Endurancetest=lifetest寿命测试Energystate能态

Energymomentumdiagram能量-动量(E-K)图Enhancementmode增强型模式

EnhancementMOS增强性MOSEntefic(低)共溶的

Environmentaltest环境测试Epitaxial外延的

Epitaxiallayer外延层Epitaxialslice外延片

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Expitaxy外延Equivalentcurcuit等效电路

Equilibriummajority/minoritycarriers平衡多数/少数载流子

ErasableProgrammableROM(EPROM)可搽取(编程)存储器

Errorfunctioncomplement余误差函数

Etch刻蚀Etchant刻蚀剂

Etchingmask抗蚀剂掩模Excesscarrier过剩载流子

Excitationenergy激发能Excitedstate激发态

Exciton激子Extrapolation外推法

Extrinsic非本征的Extrinsicmiconductor杂质半导体

Face-centered面心立方Falltime下降时间

Fan-in扇入Fan-out扇出

Fastrecovery快恢复Fastsurfacestates快界面态

Feedback反馈Fermilevel费米能级

Fermi-DiracDistribution费米-狄拉克分布Femipotential费米势

Fickequation菲克方程(扩散)Fieldeffecttransistor场效应晶体管

Fieldoxide场氧化层Filledband满带

Film薄膜Flashmemory闪烁存储器

Flatband平带Flatpack扁平封装

Flickernoi闪烁(变)噪声Flip-floptoggle触发器翻转

Floatinggate浮栅Fluorideetch氟化氢刻蚀

Forbiddenband禁带Forwardbias正向偏置

Forwardblocking/conducting正向阻断/导通

Frequencydeviationnoi频率漂移噪声

Frequencyrespon频率响应Function函数

Gain增益Gallium-Arnide(GaAs)砷化钾

Gamyrayr射线Gate门、栅、控制极

Gateoxide栅氧化层Gauss(ian)高斯

Gaussiandistributionprofile高斯掺杂分布Generation-recombination产生-复合

Geometries几何尺寸Germanium(Ge)锗

Graded缓变的Graded(gradual)channel缓变沟道

Gradedjunction缓变结Grain晶粒

Gradient梯度Grownjunction生长结

Guardring保护环Gummel-Poommodel葛谋-潘模型

Gunn-effect狄氏效应

Hardeneddevice辐射加固器件Heatofformation形成热

Heatsink散热器、热沉Heavy/lightholeband重/轻空穴带

Heavysaturation重掺杂Hell-effect霍尔效应

Heterojunction异质结Heterojunctionstructure异质结结构

HeterojunctionBipolarTransistor(HBT)异质结双极型晶体

Highfieldproperty高场特性

High-performanceMOS.(H-MOS)高性能ized归一化

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Horizontalepitaxialreactor卧式外延反应器Hotcarrior热载流子

Hybridintegration混合集成

Image-force镜象力Impactionization碰撞电离

Impedance阻抗Imperfectstructure不完整结构

Implantationdo注入剂量Implantedion注入离子

Impurity杂质Impurityscattering杂志散射

Incrementalresistance电阻增量(微分电阻)In-contactmask接触式掩模

Indiumtinoxide(ITO)铟锡氧化物Inducedchannel感应沟道

Infrared红外的Injection注入

Inputofftvoltage输入失调电压Insulator绝缘体

InsulatedGateFET(IGFET)绝缘栅FETIntegratedinjectionlogic集成注入逻辑

Integration集成、积分Interconnection互连

Interconnectiontimedelay互连延时Interdigitatedstructure交互式结构

Interface界面Interference干涉

Internationalsystemofunions国际单位制Internallyscattering谷间散射

Interpolation内插法Intrinsic本征的

Intrinsicmiconductor本征半导体Inveroperation反向工作

Inversion反型Inverter倒相器

Ion离子Ionbeam离子束

Ionetching离子刻蚀Ionimplantation离子注入

Ionization电离Ionizationenergy电离能

Irradiation辐照Isolationland隔离岛

Isotropic各向同性

JunctionFET(JFET)结型场效应管Junctionisolation结隔离

Junctionspacing结间距Junctionside-wall结侧壁

Latchup闭锁Lateral横向的

Lattice晶格Layout版图

Latticebinding/cell/constant/defect/distortion晶格结合力/晶胞/晶格/晶格常熟

/晶格缺陷/晶格畸变

Leakagecurrent(泄)漏电流Levelshifting电平移动

Lifetime寿命linearity线性度

Linkedbond共价键LiquidNitrogen液氮

Liquid-phaepitaxialgrowthtechnique液相外延生长技术

Lithography光刻LightEmittingDiode(LED)发光二极管

LoadlineorVariable负载线LocatingandWiring布局布线

Longitudinal纵向的Logicswing逻辑摆幅

Lorentz洛沦兹Lumpedmodel集总模型

Majoritycarrier多数载流子Mask掩膜板,光刻板

Masklevel掩模序号Maskt掩模组

Mass-actionlaw质量守恒定律Master-slaveDflip-flop主从D触发器

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Matching匹配Maxwell麦克斯韦

Meanfreepath平均自由程Meanderedemitterjunction梳状发射极结

Meantimebeforefailure(MTBF)平均工作时间

Megeto-resistance磁阻Mesa台面

MESFET-MetalSemiconductor金属半导体FET

Metallization金属化Microelectronictechnique微电子技术

Microelectronics微电子学Millenindices密勒指数

Minoritycarrier少数载流子Misfit失配

Mismatching失配Mobileions可动离子

Mobility迁移率Module模块

Modulate调制Molecularcrystal分子晶体

MonolithicIC单片ICMOSFET金属氧化物半导体场效应晶体管

stor(MOST)MOS.晶体管Multiplication倍增

Modulator调制Multi-chipIC多芯片IC

Multi-chipmodule(MCM)多芯片模块Multiplicationcoefficient倍增因子

Nakedchip未封装的芯片(裸片)Negativefeedback负反馈

Negativeresistance负阻Nesting套刻

Negative-temperature-coefficient负温度系数Noimargin噪声容限

Nonequilibrium非平衡Nonrolatile非挥发(易失)性

Normallyoff/on常闭/开Numericalanalysis数值分析

Occupiedband满带Officienay功率

Offt偏移、失调Onstandby待命状态

Ohmiccontact欧姆接触Opencircuit开路

Operatingpoint工作点Operatingbias工作偏置

Operationalamplifier(OPAMP)运算放大器

Opticalphoton=photon光子Opticalquenching光猝灭

Opticaltransition光跃迁Optical-coupledisolator光耦合隔离器

Organicmiconductor有机半导体Orientation晶向、定向

Outline外形Out-of-contactmask非接触式掩模

Outputcharacteristic输出特性Outputvoltageswing输出电压摆幅

Overcompensation过补偿Over-currentprotection过流保护

Overshoot过冲Over-voltageprotection过压保护

Overlap交迭Overload过载

Oscillator振荡器Oxide氧化物

Oxidation氧化Oxidepassivation氧化层钝化

Package封装Pad压焊点

Parameter参数Parasiticeffect寄生效应

Parasiticoscillation寄生振荡Passination钝化

Passivecomponent无源元件Passivedevice无源器件

Passivesurface钝化界面Parasitictransistor寄生晶体管

Peak-pointvoltage峰点电压Peakvoltage峰值电压

Permanent-storagecircuit永久存储电路Period周期

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Periodictable周期表Permeable-ba可渗透基区

Pha-lockloop锁相环Phadrift相移

Phononspectra声子谱

Photoconduction光电导Photodiode光电二极管

Photoelectriccell光电池

Photoelectriceffect光电效应

Photoenicdevices光子器件Photolithographicprocess光刻工艺

(photo)resist(光敏)抗腐蚀剂Pin管脚

Pinchoff夹断PinningofFermilevel费米能级的钉扎(效应)

Planarprocess平面工艺Planartransistor平面晶体管

Plasma等离子体Plezoelectriceffect压电效应

Poissonequation泊松方程Pointcontact点接触

Polarity极性Polycrystal多晶

Polymermiconductor聚合物半导体Poly-silicon多晶硅

Potential(电)势Potentialbarrier势垒

Potentialwell势阱Powerdissipation功耗

Powertransistor功率晶体管Preamplifier前置放大器

Primaryflat主平面Principalaxes主轴

Print-circuitboard(PCB)印制电路板Probability几率

Probe探针Process工艺

Propagationdelay传输延时Pudopotentialmethod膺势发

Punchthrough穿通Pultriggering/modulating脉冲触发/调制Pul

WidenModulator(PWM)脉冲宽度调制

Punchthrough穿通Push-pullstage推挽级

Qualityfactor品质因子Quantization量子化

Quantum量子Quantumefficiency量子效应

Quantummechanics量子力学Quasi–Fermi-level准费米能级

Quartz石英

Radiationconductivity辐射电导率Radiationdamage辐射损伤

Radiationfluxdensity辐射通量密度Radiationhardening辐射加固

Radiationprotection辐射保护Radiative-recombination辐照复合

Radioactive放射性Reachthrough穿通

Reactivesputteringsource反应溅射源Readdiode里德二极管

Recombination复合Recoverydiode恢复二极管

Reciprocallattice倒核子Recoverytime恢复时间

Rectifier整流器(管)Rectifyingcontact整流接触

Reference基准点基准参考点Refractiveindex折射率

Register寄存器Registration对准

Regulate控制调整Relaxationlifetime驰豫时间

Reliability可靠性Resonance谐振

Resistance电阻Resistor电阻器

Resistivity电阻率Regulator稳压管(器)

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

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Relaxation驰豫Resonantfrequency共射频率

Respontime响应时间Rever反向的

Reverbias反向偏置

Samplingcircuit取样电路Sapphire蓝宝石(Al2O3)

Satellitevalley卫星谷Saturatedcurrentrange电流饱和区

Saturationregion饱和区Saturation饱和的

Scaleddown按比例缩小Scattering散射

Schockleydiode肖克莱二极管Schottky肖特基

Schottkybarrier肖特基势垒Schottkycontact肖特基接触

Schrodingen薛定厄Scribinggrid划片格

Secondaryflat次平面

Seedcrystal籽晶Segregation分凝

Selectivity选择性Selfaligned自对准的

Selfdiffusion自扩散Semiconductor半导体

Semiconductor-controlledrectifier可控硅Sendsitivity灵敏度

Serial串行/串联Seriesinductance串联电感

Settletime建立时间Sheetresistance薄层电阻

Shield屏蔽Shortcircuit短路

Shotnoi散粒噪声Shunt分流

Sidewallcapacitance边墙电容Signal信号

Silicaglass石英玻璃Silicon硅

Siliconcarbide碳化硅Silicondioxide(SiO2)二氧化硅

SiliconNitride(Si3N4)氮化硅SiliconOnInsulator绝缘硅

Siliverwhiskers银须Simplecubic简立方

Singlecrystal单晶Sink沉

Skineffect趋肤效应Snaptime急变时间

Sneakpath潜行通路Sulethreshold亚阈的

Solarbattery/cell太阳能电池Solidcircuit固体电路

SolidSolubility固溶度Sonband子带

Source源极Sourcefollower源随器

Spacecharge空间电荷Specificheat(PT)热

Speed-powerproduct速度功耗乘积Spherical球面的

Spin自旋Split分裂

Spontaneoumission自发发射Spreadingresistance扩展电阻

Sputter溅射Stackingfault层错

Staticcharacteristic静态特性Stimulatedemission受激发射

Stimulatedrecombination受激复合Storagetime存储时间

Stress应力Straggle偏差

Sublimation升华Substrate衬底

Substitutional替位式的Superlattice超晶格

Supply电源Surface表面

Surgecapacity浪涌能力Subscript下标

Switchingtime开关时间Switch开关

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

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Tailing扩展Terminal终端

Tensor张量Tensorial张量的

Thermalactivation热激发Thermalconductivity热导率

Thermalequilibrium热平衡ThermalOxidation热氧化

Thermalresistance热阻Thermalsink热沉

Thermalvelocity热运动Thermoelectricpovoer温差电动势率

Thick-filmtechnique厚膜技术Thin-filmhybridIC薄膜混合集成电路

Thin-FilmTransistor(TFT)薄膜晶体Threshlod阈值

Thyistor晶闸管Transconductance跨导

Transfercharacteristic转移特性Transferelectron转移电子

Transferfunction传输函数Transient瞬态的

Transistoraging(stress)晶体管老化Transittime渡越时间

Transition跃迁Transition-metalsilica过度金属硅化物

Transitionprobability跃迁几率Transitionregion过渡区

Transport输运Transver横向的

Trap陷阱Trapping俘获

Trappedcharge陷阱电荷Trianglegenerator三角波发生器

Triboelectricity摩擦电Trigger触发

Trim调配调整Triplediffusion三重扩散

Truthtable真值表Tolerahce容差

Tunnel(ing)隧道(穿)Tunnelcurrent隧道电流

Turnover转折Turn-offtime关断时间

Ultraviolet紫外的Unijunction单结的

Unipolar单极的Unitcell原(元)胞

Unity-gainfrequency单位增益频率Unilateral-switch单向开关

Vacancy空位Vacuum真空

Valence(value)band价带Valuebandedge价带顶

Valencebond价键Vapourpha汽相

Varactor变容管Varistor变阻器

Vibration振动Voltage电压

Wafer晶片Waveequation波动方程

Waveguide波导Wavenumber波数

Wave-particleduality波粒二相性Wear-out烧毁

Wirerouting布线Workfunction功函数

Worst-cadevice最坏情况器件

Yield成品率

Zenerbreakdown齐纳击穿

Zonemelting区熔法

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

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AS:AbnormalTailSensitivity线尾灵敏度异常1C

AT:AbnormalTailThreshold线的阀值异常4}9n.W-e(_0c1:j.}F8N

Bnd:Bond键合!u3D!o.Q8U2g&e2V

B/H:BondHead焊头

BBOS:BondBallOnStitch

BFM:BallFormationMonitor检测烧球质量$V!T)|#P2d!j:c

BOS:BasicOperation&Setup基本操作&设置

BPO:BondPadOpeningPad尺寸,D!d"E%K;E)@5m

BPP:BondPadPitch焊点之间的距离

BQM:BondQualityMonitor焊接质量检测

BSD:BondStickDetection检测键合粘度

BSOB:BondStitchonBall

BSOS:BondStitchonStitch

BTO:BondTipOfft焊针与镜头十字线中心位置同步校正6L%L/XF%}(T.X'n#n%]+W

C:CoaxLight同轴光"C#k,`4g+?

CA:ChamferAngle倒角角度

CD:ChamferDiameter倒角直径%I1[1p8J8x

CRT:CathodeRayTube阴极射线管

CS:ContaminationSensitivity污染敏感度3Q4M*A$v%a/W!G.G:}

CT:ContaminationThreshold污染阀值

Ctrl:Control控制;管理;抑制

D:Die芯片0d0Re"u7e4G-X5I$c2k

DACigitalAnalogConverter数字转换器#w:J*r3S#K+b

DSPigitalSignalProcessing数字信号处理$U5J.c9V"M$U/w,A*]

EFO:ElevtronicFlame-Off电子打火系统+_'w.x8E#I`5_#WX/b(y

FA:FaceAngle顶锥角(面锥角)"w%g)b!d2B

FAB:FreeAirBall空气球

FD:FloppyDisk软盘,软式磁碟片(W(e4o0p2T))HA

Frd:Forward前进

GEM:Generic

Hi:HightMagnification高倍率

Hybd:Hybrid混合动力/混合式2w6L2y%]'q6R

Impd:Impedence阻抗

Ins:Inspection检查,检验,?+m:n+T;Z

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

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L/FeadFrame框架

Lo:LowMagnification低倍率%h;w1g;g"E9b,r$u5R(A6^

Lgtight光照/灯$o.m*h2{:u/b!A-Q

Manu:Manual手册;指南](o;x7b;d

MTBA:MeanTimeBetweenAssist&n#S(l-G!p+W-U%F

MTBF:MeanTimeBetweenFailure

NSOL:NonStickOnLead第二点打不粘

NSOP:NonStickOnPad第一点打不粘

OLP:OffLineProgramming)R#_'_#D#g4c(g4P

OLVP:OffLineVerificationProgram,J.c-x5S7:Z:Q%a9h:Y9B

OR:OuterRadius

PIDroportionalIntegralDifferential

PMreventiveMaintenance生产保养

PRatternRecognition图像识别

PRS:PatternRecognitionSystem图像识别系统,T7a&j;D"W9x2}!@

RD:ReverDistance反向距离)M;y2h6~)s'J,H

RDA:ReverDistanceAngle反向角度4j7W2Y$h7Z*@*^

Rev:Rever:反相

RH:ReverHeight反向高度

S:SideLight侧灯

SECS:SemiconductorEquipmentControlStandard半导体设备控制标准.y$K2h9q9N4L+p*n

SG:SparkGenerator火花发生器

SMPS:SwitchModePowerSupply电源供应器

Tol:Tolerance公差;容忍;宽容;公差

T/P:TopPlate顶板

UPH:UnitPerHour每小时产量#Y7{;vu9`8Z$}

UTI:UltrasonicTransducerInterface超声波传感受器接口$`-k+N:B-l,o9H"_-^(T(e7W1j

VLL:VisualLeadLocator导脚定位

W/C:WireClamp线夹5p+u3h;R)`Q

W/H:WorkHolder轨道

W/S:WireSpool线轴0c+y1r!g4`

9E!J"I8O-)]

ESD:ElectroStaticDischarge静电释放#m%M1K*d-A,l+Q

EPa:ESDProtectedarea静电防护区9f2_3S1o7C4s"H

ESDS静电敏感设备8i$M1v*K,_$d

BM:BreakdownMaintenance事后维修&Y-N*S0i'c:O/Y-P:Z!V

CM:CorrectiveMaintenance改良保养-[)O0d%e+a

PVM:PreventiveMaintenance预防保养

MP:MaintencePreventive保养预防9W+g.F1U5T3I-C0s:P#l$x

PM:ProductionMaintenance生产保养

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

18v

BG:backgrinding背部研磨

DS:diesaw将wafer切die

DA:dieattach=DB:diebond装片

WB:wirebond焊线

MD:molding塑封,

TF:trim/from切脚、成型

Plate:这个要根据上下文来解释,

Packing:包装

TapeandReel:编带包装,盖膜跟载带走(这个膜分类也很广,也要根据上下文来做正确解释)

TCP:TAPECARRIERPACKAGE

COF:CHIPONFILM

PACKAGESAW=SINGULATION将QFN产品切割开来

TCP:TAPECARRIERPACKAGE

COF:CHIPONFILM!

PACKAGESAW=SINGULATION计划检查表

日期周几复习课目时间在规定时间内是

否完成

学生签

家长签

2017.11.

13

周一四小科例20:30-21:30是(√)否(√)穆诚豪

1.1数学八年级上册同步练习:12.2.1三角形全等的判定SSS3

19v

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